事件
        据媒体18日报道，全球最大半导体设备厂应用材料公司资深经理陆勤表示，AMAT将以钴金属全面取代铜作为导线材料，可能在7纳米制程进入学习阶段，在5纳米制程客户端有望全面导入。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】
        核心观点
        钴取代铜有助于提升芯片效能。http://www.hibor.com.cn（慧博投研资讯）晶圆代工巨头台积电10纳米工艺生产良率已经好转，7纳米制程预计在2018年第1季度投入量产，5纳米制程的研究开发也在今年初开始，在沿摩尔定律从10纳米向个位数纳米制程的演进过程中，若继续采用现有材料，导电速度将成为瓶颈。钴金属相较于铜更加活跃，若以钴金属取代铜作为晶圆加工刻蚀过程中的金属材料，将提升导电性、降低功耗并减小芯片体积，使芯片效能更优越。
        钴取代铜并非制程演进的关键。从芯片制程遵循摩尔定律演进的过程来看，制程缩小的核心一方面在于内部电路设计的不断改进，另一方面在于光刻设备工艺精度逐步提升，从10纳米向个位数纳米制程演进的瓶颈也并非在于金属材料，钴相比于铜可以更好地配合低制程，但钴对铜的替代并不会显著推动个位数纳米制程的进展。
        个位数纳米制程推进的关键在于光刻工艺突破。光刻是芯片制造过程中最重要的工序，直接关系到芯片的技术水平，目前业界主流采用的是沉浸式光刻工艺，对于个位数纳米制程，沉浸式光刻工艺无法达到如此高的精度，业界于2006年开始便致力于研发更先进的EUV（极紫外光刻）工艺，光刻巨头ASML已于16年出货4套EUV光刻机，同时积极推进EUV工艺升级，投资光学大厂Carl  Zeiss，致力于合作开发下一代0.5NA版本EUV系统，EUV光刻机技术不断突破将有望推动个位数纳米制程逐步实现。
        投资建议与投资标的
        该事件对半导体设备领域有一定推动作用，国内半导体设备标的较少，具有稀缺性，我们看好半导体国产化趋势为相关公司带来的投资机会，建议关注北方华创(002371，未评级)（半导体设备）、上海新阳(300236，未评级)（半导体化学品配套设备）、太极实业(600667，未评级)（半导体固定资产投资）。
        风险提示
        个位数纳米制程进展不达预期；半导体设备进度不达预期；相关公司业务发展不达预期。